注意測繪儀器的防霧
　　測繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現象外，往往還有光學零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對光學信器起霧的主要因素，采取防止措施。
　　A、設計使用中的防霧措施
　　A1、設計儀器時注意防霧，儀器結構應加強密封性能，保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能，以防止因漏氣而引起的水性霧，設計人員應當充分注意選擇化學穩定性能好的光學玻璃和材料，為防霧打下良好的基礎。
　　A2、在制造和維修過程中注意整潔生產，裝配和維修的工房須清潔，并嚴格遵守操作規程，精心擦拭光學零件，嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件，夾持光學零件的工具須進行脫脂處理，擦光學零件所用的輔件，如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂，控制含脂量，裝光學零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子，須經常清洗，保持清潔，這些都是減少油性霧的重要途徑。

精密光化學反應器是開發新一代化學反應裝置，主要適用于液相固相，模擬可見光，特種模擬照射下是否負載，在催化劑等條件下的光化學反應，化學合成，環境環保護及生命科學研究領域。

新一代光化學反應裝置，主要用于研究氣相、液相固相、流動體系在模擬紫外光、模擬可見光、特種模擬光照射下，是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。同時我公司為客戶提供纖維狀、排列狀物質特殊反應容器，解決不通物質在常規反應容器內的放置問題。

光催化降解JT-GHX-A光化學反應儀多功能光化學反應儀適合應用于化學合成、環境保護及生命科學等研究領域，該系統具有技術合理、結構簡單、操作便捷、運行穩定、保護人體、自由組合、靈活定做等*優勢!

主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產率等功能，廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

光催化降解JT-GHX-A光化學反應儀技術參數:

　　(一)主體部分：

　　1.光源功率可連續調節大小。

　　2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

　　3.汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

　　4.氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

　　5.金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

　　(二)小容量反應部分:

　　1.石英試管規格：30ml、50ml(或定做)。

　　2.可同時處理8個樣品(或定做)。

　　3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

　　(三)大容量反應部分:

　　1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

注意事項

　　在操作、維護和儀器的所有階段，都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時應按照說明書來操作,違規使用會造成儀器的正常工作，至使儀器損壞。

　　A、為了避免觸電事故，儀器的輸入電源線必須接地，本儀器使用的是三芯接地插頭，這種插頭有接地腳，如果插頭無法插入座內，則應請電工安裝正確的插座，不要使儀器失去接地保護作用。

　　B、注意使用電源：

　　在連接交流電源之前，要確保電壓與儀器所要求的電壓*(允許±10%的偏差)，并確保電源插座的額定負載不小于儀器要求。

　　C、注意使用電源線：

　　本儀器通常使用隨機附帶的電源線。如果電源線破損，必須更換不許修理。更換時必須用相同類型和規格的電源線代替。本儀器使用時電源線上不許放置任何物品。不要將電源線置于人員走動的地方。

　　D、注意儀器的安放：

　　本儀器應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置，為了更好的散熱效果，儀器通風處，于其它物品應保持有效距離(N﹥30cm)。

 必須重視儀器設備的管理和使用
　　儀器設備的高負荷使用，往往容易發生意外故障，特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧，就不能發揮儀器的正常作用，而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設備已成為當今企事業單位有效降低成本，提高勞動生產率的有效手段。目前國內企業設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業模式，即當儀器設備發生故障，無法繼續使用時，維修人員才在短時間內將故障排除，而當沒有發生故障時，維修人員只是空閑，所以這樣的管理模式是談不上效率的，因此，儀器設備的管理也應做好計劃，同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養來減低故障的發生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免搶修工作，保證儀器隨時能投入正常的作用，這就是一種主動的方式。